EDI的物理化學進行維護清潔：

催化進行維護清潔的要素前提：

（1）水攝氏度和用戶(hu)量不便的原(yuan)因下惠(hui)陽壓差大添加30%；

（2）水體溫和聯通流量發生變化的問題下濃水氣體壓力(li)擴(kuo)大30%；

（3）水(shui)濕度和國(guo)內(nei)流(liu)量及漏液純水(shui)電(dian)導率不改的前提(ti)下產水(shui)電(dian)阻器率驟(zou)降；

（4）水溫度因(yin)素不(bu)便的(de)狀況(kuang)下輸出(chu)模塊(kuai)電容提高20%；

（5）產(chan)儲水量變了(le)的癥狀下脫鹽率(lv)看不出減低(di)。

難以清(qing)理(li)以前，可(ke)以先(xian)(xian)分析一下污(wu)堵種類：對(dui)(dui)生產酸物(wu)明(ming)顯污(wu)染較明(ming)顯的(de)的(de)原(yuan)(yuan)因(yin)，先(xian)(xian)要磷(lin)化(hua)(hua)(hua)后再堿洗(xi)(xi)，且應(ying)提(ti)升堿洗(xi)(xi)時長間隔，必備時，堿洗(xi)(xi)后再參與一遍簡(jian)潔明(ming)了磷(lin)化(hua)(hua)(hua)；對(dui)(dui)硅化(hua)(hua)(hua)物(wu)鹽積垢(gou)較明(ming)顯的(de)的(de)原(yuan)(yuan)因(yin)，需提(ti)升磷(lin)化(hua)(hua)(hua)時長間隔，磷(lin)化(hua)(hua)(hua)后再參與簡(jian)潔明(ming)了的(de)堿洗(xi)(xi)或(huo)沾水；般的(de)原(yuan)(yuan)因(yin)，磷(lin)化(hua)(hua)(hua)難以清(qing)理(li)硅化(hua)(hua)(hua)物(wu)鹽垢(gou)，堿洗(xi)(xi)難以清(qing)理(li)生產酸物(wu)和微海洋生物(wu)。

每類的(de)洗滌后，必須用RO出液進行維護(hu)清潔道路干凈的(de)，才可參與下類型的(de)洗滌，禁酸、堿在機控制(zhi)系統里攪拌；配(pei)置的(de)洗滌EDI機控制(zhi)系統時，漏液的(de)壓(ya)力必須切實保障(zhang)≤0.4Mpa。

較(jiao)高(gao)(gao)的藥液氣溫(wen)表有弊(bi)于電化學(xue)洗(xi)滌，通常情況下可(ke)以用在(zai)洗(xi)滌小水(shui)箱電加水(shui)，對酸洗(xi)鈍化能加水(shui)至(zhi)30～35℃，對堿(jian)洗(xi)能加水(shui)至(zhi)35～40℃，但藥液氣溫(wen)表不得太(tai)高(gao)(gao)，太(tai)高(gao)(gao)的氣溫(wen)表會影(ying)響EDI膜pcb板化學(xue)降解(jie)。

較難(nan)治的污(wu)堵還都行用泡過的機制，即循環往復(fu)往復(fu)除(chu)(chu)(chu)污(wu)2h后，（或更長的時間段，最棒除(chu)(chu)(chu)污(wu)至酸、堿濃硫酸濃度不需要變(bian)時），停除(chu)(chu)(chu)污(wu)泵，使EDI膜泡過2～4h，然后呢廢氣再循環往復(fu)往復(fu)15～30min。若一起除(chu)(chu)(chu)污(wu)不期望，需深入分析(xi)原因分析(xi)，有(you)必要時都行再開始一起除(chu)(chu)(chu)污(wu)。

藥洗好成(cheng)后進(jin)行(xing)純凈水(shui)沖刷(shua)，可(ke)沖刷(shua)掉還未降(jiang)解的(de)(de)有(you)害物(wu)與(yu)不(bu)(bu)可(ke)溶有(you)害物(wu)。此外生活中使(shi)用時(shi)就(jiu)必須衡量和(he)收(shou)錄膜元(yuan)器件(jian)(jian)的(de)(de)壓(ya)(ya)強(qiang)及壓(ya)(ya)的(de)(de)變化，不(bu)(bu)斷(duan)地(di)元(yuan)器件(jian)(jian)內浸水(shui)短信通(tong)道被閉(bi)塞，壓(ya)(ya)將(jiang)增(zeng)(zeng)強(qiang)。這(zhe)樣浸水(shui)攝氏度(du)減低，元(yuan)器件(jian)(jian)產水(shui)流量也(ye)會上升，他是普通(tong)的(de)(de)問題(ti)不(bu)(bu)以膜的(de)(de)的(de)(de)污染(ran)所產生的(de)(de)。經常情(qing)況(kuang)下(xia)下(xia)，壓(ya)(ya)強(qiang)把控不(bu)(bu)正常或收(shou)舊(jiu)率(lv)的(de)(de)增(zeng)(zeng)強(qiang)已經造(zao)成(cheng)產水(shui)流量的(de)(de)上升或鹽透射率(lv)的(de)(de)增(zeng)(zeng)強(qiang)，倘若(ruo)膜元(yuan)器件(jian)(jian)尋(xun)常不(bu)(bu)要求清潔。

擦洗階段及制劑硬件配置

1、酸洗(xi)硫酸銅(tong)溶液（2%）重(zhong)復(fu)洗(xi)滌30min; 

2、水情況(kuang)呢20～30min;

3、氯化鈉(na)（5%）洗掉(diao)30min;

4、水(shui)沖泡20～30min;

5、氯化(hua)鈉（5%）+氫鈍化(hua)鈉（1%）間歇(xie)除污30min; 

6、水(shui)沖刷20～30min;

7、清潔工作完成后電(dian)恢復至產水(shui)合(he)理。

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